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高流量應用型超高純度閥，ALD20 系列
簡(jiǎn)要描述：新型 ALD20 超高純閥專(zhuān)為突破原子層沉積閥技術(shù)的極限而設計，從而使流量達到使用現有 ALD 閥所能達到的兩到三倍。該閥門(mén)使半導體芯片制造商不僅具有增加產(chǎn)量和提高效率的潛力，而且還可以在不顯著(zhù)改變工藝的情況下做到這一點(diǎn)。ALD20 可以在與現有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv 的流量，從而無(wú)需改裝現有設備即可實(shí)現更高的性能第二款標準 ALD20 閥類(lèi)型具
產(chǎn)品型號：
所屬分類(lèi)：閥門(mén)
更新時(shí)間：2024-06-18
廠(chǎng)商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
ALD20 提供了客戶(hù)對世偉洛克超高純 ALD 閥所期望的可靠性和性能，同時(shí)還帶來(lái)了先前無(wú)法實(shí)現的溫度穩定性和流量可能性。這款閥門(mén)使制造商能夠試驗不同的工藝和低蒸汽壓化學(xué)品，以實(shí)現當今和未來(lái)開(kāi)發(fā)先進(jìn)技術(shù)所需的均勻氣體沉積。
新型 ALD20 超高純閥專(zhuān)為突破原子層沉積閥技術(shù)的極限而設計，從而使流量達到使用現有 ALD 閥所能達到的兩到三倍。該閥門(mén)使半導體芯片制造商不僅具有增加產(chǎn)量和提高效率的潛力，而且還可以在不顯著(zhù)改變工藝的情況下做到這一點(diǎn)。
ALD20 可以在與現有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv 的流量，從而無(wú)需改裝現有設備即可實(shí)現更高的性能
第二款標準 ALD20 閥類(lèi)型具有稍大的占用空間寬度 (1.75 in.)，可產(chǎn)生更高的 1.7 流量系數 — 這也是超高循環(huán)壽命超高純閥目前所能提供的最高流量
還可提供定制的流量系數
ALD20 的設計能夠在超高循環(huán)壽命中促進(jìn)一致的操作性能得益于以下幾項主要特點(diǎn)：
整個(gè)閥門(mén)和執行機構均可浸入 50°F (10°C) 至 392°F (200°C) 的氣箱中，從而無(wú)需在加熱期間隔離執行機構。因此，低蒸汽壓氣體保持在有利于理想流量的溫度下，沉積一致性得以改善
316L VIM-VAR 不銹鋼或合金 22 閥體材料選項具有增強的耐腐蝕性，可承受腐蝕性日趨嚴重的介質(zhì)
擁有 5 μin. Ra 表面處理的高度拋光型波紋管支持在超高循環(huán)壽命的工藝中進(jìn)行清潔操作，以實(shí)現工藝完整性
氣動(dòng)執行機構可實(shí)現高速 (<10 ms) 且可重復的啟動(dòng)，以實(shí)現精確而一致的流量，從而滿(mǎn)足計量要求。
規格
| 工作壓力 | 真空至 20 psig (1.4 bar) |
| 爆裂壓力 | >3200 psig (220 bar) |
| 執行壓力 | 70 至 90 psig（4.8 至 6.2 bar） |
| 溫度 | 50° 至 392°F（10° 至 200°C） |
| 流量系數 (Cv) | 1.2 (MSM) 1.7（直通型） |
| 閥體材料 | 316L VIM-VAR 或合金 22 |
| 波紋管材料 | 合金 22（5 μin. Ra 表面處理） |
| 端接 | |
| 類(lèi)型（尺寸） | 內螺紋 VCR® 接頭 (1/2 in.) 可旋轉外螺紋 VCR 接頭 (1/2 in.) 卡套管對焊，長(cháng)度 0.50 in. (1/2 in. x 0.049 in.) 模塊化表面安裝高流量 C 型密封 (1.5 in.) |
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