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新型 ALD20 超高純閥專(zhuān)為突破原子層沉積閥技術(shù)的極限而設計，從而使流量達到使用現有 ALD 閥所能達到的兩到三倍。該閥門(mén)使半導體芯片制造商不僅具有增加產(chǎn)量和提高效率的潛力，而且還可以在不顯著(zhù)改變工藝的情況下做到這一點(diǎn)。 ALD20 可以在與現有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv 的流量，從而無(wú)需改裝現有設備即可實(shí)現更高的性能 第二款標準 ALD20 閥類(lèi)型具

世偉洛克 超高純隔膜閥（ALD7 系列） 世偉洛克 ALD7 超高純閥提供了在新的或已有的半導體制造設備中，幫助盡可能地提高芯片產(chǎn)量所必需的流量一致性和流通能力、執行機構速度、溫度等級和潔凈度。

我們的高性能 ALD 閥是世偉洛克長(cháng)期以來(lái)在半導體制造業(yè)中顯示出迅速積極的技術(shù)領(lǐng)導力的一個(gè)重要例子。ALD 閥技術(shù)問(wèn)世以來(lái)，世偉洛克與半導體行業(yè)的客戶(hù)密切合作，了解他們的需求，然后打造出 ALD 閥，提供必要的、高水平的精度、一致性、清潔度和高循環(huán)壽命，以跟上市場(chǎng)的快速創(chuàng )新步伐。